| 从芝加哥Graph Expo'95看印刷技术发展的动向 |
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| 引用本文： | 车茂丰.从芝加哥Graph Expo'95看印刷技术发展的动向[J].出版与印刷,1996,0(1):6-10. |
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| 作者姓名： | 车茂丰 |
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| 作者单位： | 上海印刷技术研究所 |
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| 摘 要： | 美国芝加哥的Graph Expo是世界上第三大规模的国际性印刷博览会,而GraphExpo’95(10月4—8日)的规模又比历届更大,新技术含量也更丰富,同时还举办了51个技术讲座。参展厂商560家,布展面积达38万平方英尺,其中印前部分占1/3。参观人数约5万人次。除印刷业有关人士外,不少美术家、设计师也纷至沓来。
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