| 集成电路热点问题讨论 |
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| 引用本文： | 沈正传.集成电路热点问题讨论[J].泰州职业技术学院学报,2004,4(1):21-23. |
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| 作者姓名： | 沈正传 |
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| 作者单位： | 泰州职业技术学院,江苏,泰州,225300 |
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| 摘 要： | 集成电路的发展过程中采用的最新技术有：纳米技术，片上系统技术(SOC)和浅沟隔离技术(STI)，这些新技术加快了集成电路的发展进程。
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| 关 键 词： | 纳米技术 片上系统技术（SOC） 浅沟隔离技术（STI） |
| 文章编号： | 1671-0142(2004)01-0021-03 |
Disscussing the Hot lssues of Integrated Circuit |
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| SHEN Zheng-chuan.Disscussing the Hot lssues of Integrated Circuit[J].Journal of Taizhou Polytechnical Institute,2004,4(1):21-23. |
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| Authors: | SHEN Zheng-chuan |
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| Abstract: | There exist some new techniques in the development of integrated circuit,such as nanometer,techniques,techniques in system on card (SOC) and techniques in shallow trench isolation (STL). These new techniques quicken the development of integrated circuit. |
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| Keywords: | Nanometer techniques techniques in system on card (SOC) techniques in shallow trench(STI) |
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