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| 磁头研抛工艺规律研究 | |
| 作者姓名： | 吴任和 申儒林 |
| 作者单位： | [1]广东轻工职业技术学院机电系,广东广州510300 [2]中南大学机电工程学院,湖南长沙410083 |
| 摘 要： | 计算机硬盘其存储容量的发展要求不断降低磁头在硬盘表面的飞行高度,从而要求硬盘磁头的表面粗糙度越来越小。分析一种目前普遍应用于工业的技术：浮法抛光法,研究其研抛工作时工艺参数对磁头表面的影响情况,寻求一个何时的研抛参数和影响因素,以求达到快速加工,降低成本。 |
| 关 键 词： | 磁头 研抛工艺参数 表面粗糙度 |
| 文章编号： | 1007-1792（2007）08-0282-04 |
| 修稿时间： | 2007-05-08 |
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