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MOS管短沟道效应及其行为建模
引用本文:冼立勤,高献伟.MOS管短沟道效应及其行为建模[J].实验室研究与探索,2007,26(10):14-16.
作者姓名:冼立勤  高献伟
作者单位:北京电子科技学院,电子技术实验室,北京,100070
基金项目:北京市高等教育教学改革工程项目
摘    要:随着集成电路工艺的不断革新,集成电路器件的尺寸不断减小,当MOS管的尺寸小到一定程度时,会出现短沟道效应,此时MOS管特性与通常相比有很大不同。本文介绍了描述短沟道MOS管特性的一些公式,然后利用硬件描述语言VHDL-AMS对短沟道MOS管进行了行为建模,并利用混合信号仿真器SMASH5.5对模型进行了仿真,将短沟道MOS管模型特性与一般模型特性作了比较。

关 键 词:短沟道效应  MOS管  行为建模
文章编号:1006-7167(2007)10-0014-03
收稿时间:2006-12-13
修稿时间:2006年12月13

MOSFET Short-channel Effect and Its Behavioral Modeling
XIAN Li-qin,GAO Xian-wei.MOSFET Short-channel Effect and Its Behavioral Modeling[J].Laboratory Research and Exploration,2007,26(10):14-16.
Authors:XIAN Li-qin  GAO Xian-wei
Institution:Electronics Technology Lab. , Beijing Electronic Science and Technology Inst. , Beijing 100070, China
Abstract:Short-channel effects appear when dimensions of MOSFET are less to a certain extent,and then the characteristic of the MOSFET is different from the generic model.This paper presented the formulation including short-channel MOSFET,then created its behavioral model using VHDL-AMS and simulated by the mixed signal simulator SMASH5.5.The results of simulation are compared with generic model.
Keywords:VHDL-AMS
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