屏下光学指纹识别重点专利技术分析 |
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引用本文: | 付宁,黎进.屏下光学指纹识别重点专利技术分析[J].中国科技信息,2023(10):30-33. |
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作者姓名: | 付宁 黎进 |
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作者单位: | 国家知识产权局专利局专利审查协作四川中心 |
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摘 要: | <正>光学指纹识别基于受抑全反射的原理设计,具有环境光抗干扰性能强,极端环境下稳定性好,成本相对较低,并能提供较高分辨率的图像,信号穿透率更强等优点,被广泛应用到智能手机、笔记本电脑、门禁系统、考勤机、网络认证等领域。其中,随着智能手机的发展,光学指纹识别越来越多地被应用到智能电话中,由于光学指纹识别不需要在手机上额外的开孔,直接集成在屏幕下方,进而实现了更高效的空间利用率。目前,屏下光学指纹识别技术主要包括基于自发光式和外加光源式的光学式指纹传感两大技术。
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