| 准分子激光光刻技术及进展综述 |
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| 引用本文： | 王光伟.准分子激光光刻技术及进展综述[J].天津工程师范学院学报,2008,18(1):1-5. |
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| 作者姓名： | 王光伟 |
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| 作者单位： | 天津工程师范学院,电子工程系,天津,300222 |
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| 基金项目： | 天津市高等学校科技发展基金 |
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| 摘 要： | 从准分子激光的概念及特点引入,概述了以248 nm KrF、193 nm ArF以及157 nm F2准分子激光光刻技术的现状和进展,并探讨了该领域面临的诸多挑战以及解决思路.
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| 关 键 词： | 准分子激光 激光光刻 刻蚀 集成电路工艺 准分子激光光刻技术 进展综述 progress technique photolithography excimer laser 现状 |
| 文章编号： | 1673-1018(2008)01-0001-05 |
| 修稿时间： | 2007年11月20 |
Review of excimer laser photolithography technique and its progress |
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| WANG Guang-wei.Review of excimer laser photolithography technique and its progress[J].Journal of Tianji University of Technology and Education,2008,18(1):1-5. |
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| Authors: | WANG Guang-wei |
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