| 国际标准ISO TR22335实验比对 |
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| 引用本文： | 姚文清.国际标准ISO TR22335实验比对[J].实验技术与管理,2013,30(4). |
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| 作者姓名： | 姚文清 |
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| 作者单位： | 清华大学分析中心,北京,100084 |
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| 基金项目： | 科技部创新方法工作专项项目 |
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| 摘 要： | 为了制定"技术报告"类国际标准ISO TR22335,2005年2月ISO/TC201技术委员会委托美国国家标准学会负责召集工作小组,小组成员由中国、匈牙利、日本、英国、美国、瑞士、韩国、菲律宾、俄罗斯等9个国家组成,中国等3个国家的6个实验室参加了实验比对,其中清华大学分析中心扫描俄歇电子能谱仪测得的标准偏差值最接近实际值,测得结果为:利用单孔栅网对97nm的热氧化二氧化硅片进行界面溅射测量,测量的孔内(IA)标准偏差值为0.06min,孔外(OA)标准偏差值为0.03min;氧化层厚度测量的标准偏差值为0.4nm。
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| 关 键 词： | ISO TR22335 扫描俄歇电子能谱 溅射界面 氧化层厚度 |
ISO TR 22335:2007 experimental comparison |
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| Yao Wenqing.ISO TR 22335:2007 experimental comparison[J].Experimental Technology and Management,2013,30(4). |
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| Authors: | Yao Wenqing |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | |
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