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原子层沉积技术在光学薄膜制备中的应用综述
引用本文:莫秋燕,杨永亮.原子层沉积技术在光学薄膜制备中的应用综述[J].黑龙江科技信息,2018(21).
作者姓名:莫秋燕  杨永亮
作者单位:凯里学院大数据工程学院
摘    要:光学薄膜技术在快速发展的同时,遇到了无法实现某些高性能薄膜等问题。原子层沉积技术具有良好的台阶能力、精确控制膜层厚度以及组分等优点,在光学与光电子薄膜领域具有广泛的应用潜力,正在从实验室走向工业界。

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