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| 基于μC／OS-Ⅲ的精磨抛光机电气控制系统改进 | |
| 引用本文： | 李宏,程新党,毛军,王国玉.基于μC／OS-Ⅲ的精磨抛光机电气控制系统改进[J].南阳师范学院学报,2011,10(12):32-34. |
| 作者姓名： | 李宏 程新党 毛军 王国玉 |
| 作者单位： | 1. 南阳中光学机电装备有限公司,河南南阳,473000 2. 南阳师范学院软件学院,河南南阳,473061 |
| 摘 要： | 下摆精磨抛光机采用PLC、进口百分表等器件控制，具有成本高、人机界面简单等问题．本文基于μC／OS-Ⅲ实时控制操作系统，利用32位ARM处理器实现了精磨抛光机的自动作业实时控制功能，提供了容栅式位移传感器数据接口，改进了人机界面． |
| 关 键 词： | μC／OS-Ⅲ STM32F103RC 精磨抛光机 |
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