|
|||||
|
|
| 深紫外光刻技术在光子晶体器件中的应用 | |
| 引用本文： | 刘欢,王健,李金凤.深紫外光刻技术在光子晶体器件中的应用[J].考试周刊,2010(22):173-173. |
| 作者姓名： | 刘欢 王健 李金凤 |
| 作者单位： | 沈阳化工大学,信息工程学院,辽宁,沈阳,110142 |
| 摘 要： | 光刻技术越来越多地应用于制作光子器件中，使得光器件的体积大大缩小。本文作者研究了深紫外光刻工艺方法的基本原理及工艺过程，同时通过工艺参数优化，得到了较好的硅基光子晶体样品。 |
| 关 键 词： | 深紫外光刻技术 深紫外曝光 光子晶体 |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ | |