2011年我校新增4项授权发明专利

压敏胶残留物水基清洗剂,ZL200710078159.5（冯才敏）。本发明涉及一种压敏残留物水基清洗剂,特点是：其包括苯甲醇、表面活性剂、丙三醇、有机助剂及水;其各含量的重量百分比为：苯甲醇为10%-25%,表面活性剂为1%-5%,丙三醇为1%-5%,有机助剂为0%-10%,水为余量。其具有挥发性低、渗透力强、高效安全、清洗速度快、挥发性低、对人体无毒无害等优点。