| 气氛及压强对MOCVD红外测温的影响 |
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| 引用本文： | 杨超普,方文卿.气氛及压强对MOCVD红外测温的影响[J].商洛学院学报,2015(4):43-46. |
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| 作者姓名： | 杨超普 方文卿 |
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| 作者单位： | 1. 商洛学院化学工程与现代材料学院/陕西尾矿资源综合利用重点实验室,陕西商洛,726000
2. 南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心,江西南昌,330047 |
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| 基金项目： | 陕西省尾矿资源综合利用重点实验室开放基金项目 |
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| 摘 要： | 利用自主搭建的可径向移动的940 nm单波长红外辐射测温仪,研究了Thomas Swan CCS MOCVD第二次Bake过程中,反应室在不同气氛(氢气、氮气以及氢氮混合气体)和不同压强(13.33-53.33 k Pa)下径向温度分布。试验结果表明:压强为13.33 k Pa,MOCVD反应室内的气氛不同时,红外测温结果主要受气体导热系数的影响;在20 L氢气下,反应室内压强越大温度越高;在压强为13.33 k Pa,H2流量的不同对测温影响不大。该研究结果可为MOCVD反应室的红外辐射测温与精确控温提供参考。
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| 关 键 词： | MOCVD 红外辐射测温 在线监测 |
Influence of Atmosphere and Pressures on Infrared Temperature Measurement of MOCVD Reactor |
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| YANG Chao-pu,FANG Wen-qing.Influence of Atmosphere and Pressures on Infrared Temperature Measurement of MOCVD Reactor[J].Journal of Shangluo University,2015(4):43-46. |
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| Authors: | YANG Chao-pu FANG Wen-qing |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | MOCVD infrared radiation temperature measurement in situ monitoring |
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