光源对TiO2纳米粉体催化效果的影响

以钛酸丁酯为前躯体,采用溶胶-凝胶法制备TiO2粉体,并通过TEM和XRD分析方法对其结构性能进行表征.检测结果表明:TiO2粉体由5-10nm的球形颗粒组成,晶型为锐钛矿型.通过在不同光源下催化降解水杨酸溶液,对其光催化活性及影响因素进行了分析.实验结果表明:紫外光下此TiO2纳米粉体的光催化活性较高.     

Ni2+掺杂对TiO2薄膜光催化性能和亲水性的影响

采用sol-gel法制备了锐钛矿型TiO2薄膜与Ni2+掺杂TiO2薄膜.通过XKD、APM表征了薄膜的晶相和形貌特征,用接触角测定仪测定接触角以评估薄膜的亲水性,以甲基橙作为有机污染物研究了薄膜的光催化性能.实验结果发现:少量Ni2+掺杂提高了TiO2薄膜的亲水性和光致亲水性.但Ni2+掺杂却使TiO2先催化性能有所降低.结果表明,TiO2薄膜表面的光致亲水性与光催化特性无正相关性.     

Ni（2＋）掺杂对TiO2薄膜光催化性能和亲水性的影响

采用sol-gel法制备了锐钛矿型TiO2薄膜与Ni2＋掺杂TiO2薄膜。通过XRD、AFM表征了薄膜的晶相和形貌特征,用接触角测定仪测定接触角以评估薄膜的亲水性,以甲基橙作为有机污染物研究了薄膜的光催化性能。实验结果发现：少量Ni2＋掺杂提高了TiO2薄膜的亲水性和光致亲水性。但Ni2＋掺杂却使TiO2光催化性能有所降低。结果表明,TiO2薄膜表面的光致亲水性与光催化特性无正相关性。     

TiO_2纳米材料结构的调控及其光催化实验设计

采用水热法制备了不同形貌和结构的TiO_2纳米材料.通过控制溶剂中二甘醇和水的比例以及制备温度对TiO_2的形貌结构进行了调控.通过扫描电子显微镜和X射线衍射仪对样品的形貌和结构进行了表征.通过对亚甲基蓝的光催化降解研究其光催化性能.结果表明,二甘醇和水比例为1:1.7,温度为200℃时所制备的TiO_2分级结构具有最佳的光催化活性.该实验涉及了文献阅读、实验方案制定以及结果分析等环节,培养了学生的动手、分析、应用以及创新等能力.     

掺杂纳米TiO2的制备和光催化性能的研究

TiO2作为半导体,它的光催化性能日益被人们所重视,但纯的TiO2光催化性能活性不高,通过降低粒度和对TiO2进行掺杂可以提高光催化活性,本文采用溶胶——凝胶法制备(Ag,La)掺杂纳米TiO2,并对不同样品进行光催化比较实验,从而得到最佳掺杂,最后通过XRD、SEM对其性能进行表征。     

硅藻土混杂TiO2光催化剂的合成及活性研究

以硅藻土为固体活性添加物,采用sol-gel方法水解钛酸四丁酯制备溶胶与硅藻土混合合成混杂型光催化剂,样品分别用XRD和FTIR表征;以光催化亚甲基蓝溶液为反应体系,用Uv-vis光谱评价在紫外光照射下活性实验.结果表明,在混杂组分中含较低TiO2的质量百分比,所制备的硅藻土混杂型TiO2光化剂有较高的光催化脱色活性.     

硅藻土混杂TiO_2光催化剂的合成及活性研究

以硅藻土为固体活性添加物 ,采用sol-gel方法水解钛酸四丁酯制备溶胶与硅藻土混合合成混杂型光催化剂 ,样品分别用XRD和FTIR表征 ;以光催化亚甲基蓝溶液为反应体系 ,用Uv -vis光谱评价在紫外光照射下活性实验 .结果表明 ,在混杂组分中含较低TiO2 的质量百分比 ,所制备的硅藻土混杂型TiO2 光化剂有较高的光催化脱色活性     

薄膜电极材料超级电容性能综合实验设计

设计了薄膜电极材料的制备及超级电容性能研究的综合性实验。运用电化学沉积的方法制备Co(OH)2薄膜电极材料,采用FESEM对基底与薄膜进行形貌表征,通过差热-热重对薄膜的热稳定性进行分析,重点考察了两种沉积温度对薄膜超级电容性能的影响。结果表明,50℃沉积温度下电流密度为4 A/g时,比容量可达2780 F/g,且分散阻抗较低。该实验原材料简单,过程容易实现,且涵盖薄膜材料制备、表征、性能分析等多个知识点。     

TiO2／WO3纳米粉体的制备及其光催化性能

以NazWO4和C12H25NH3·Cl作原料，通过液相沉淀法制备了WO3纳米粉体，再用钛酸胶体浸滞法制备了TiO2包覆的WO3纳米粉体，并采用透射电子显微镜、紫外-可见漫反射吸收光谱和X-射线衍射对其结构进行了表征．实验结果表明，TiO2包覆WO3的光响应范围扩大，吸附量增大，显著提高了WO3对可溶性染料罗丹明B的光催化降解活性和光稳定性．     

掺铁TiO2纳米粉体的制备工艺对光催化活性的影响

本研究分别采用了直接沉淀法和共沸蒸馏法制备出掺Fe^3＋量为0．1％的TiO2纳米粉体,用XRD分析方法对晶体的物相和粒径进行了表征。通过在日光源下催化降解水杨酸溶液,对其光催化活性的影响情况进行了比较。结果表明：以共沸蒸馏法制备出的掺Fe^3＋量为0．1％的TiO2纳米粉体在日光下的光催化活性较高。     

硅藻土混杂TiO2光催化剂的合成及活性研究

以硅藻土为固体活性添加物，采用sol-gel方法水解钛酸四丁酯制备溶胶与硅藻土混合合成混杂型光催化剂，样品分别用XRD和RTIR表征；以光催化亚甲基蓝溶液为反应体系，用Uv-vis光谱评价在紫外光照射下活性实验，结果表明，在混杂组分中含较低TiO2的质量百分比，所制备的硅藻土混杂型TiO2光化剂有较高的光催化脱色活性。     

Au和Pd修饰TiO_2光催化剂合成及光催化实验设计

采用离子液体微波辅助法制备TiO_2载体材料,并通过原位沉积法负载了贵金属纳米颗粒(Au)和钯(Pd);通过X射线衍射仪、扫描透射电子显微镜对样品进行表征,确定形貌及负载情况;通过亚甲基蓝的光催化降解与苯甲醇光催化氧化研究其可见光催化性能。结果表明,双金属Au和Pd且负载1%Au和1%Pd时获得最佳催化效果。该实验步骤简单、综合性强,涵盖众多知识点,便于学生系统掌握光催化实验知识。     

Gd和TiO_2共掺杂的WO_3纳米粉体的制备及其光催化性能

以Na2WO4和C16H33(CH3)3NBr为原料,通过液相沉淀法制备了WO3纳米粉体,用钛酸胶体溶液浸滞法制备了TiO2掺杂的WO3纳米粉体,再用Gd(NO3)3溶液浸滞TiO2掺杂的WO3纳米粉体法制备了稀土Gd和TiO2共掺杂的WO3纳米粉体,并采用透射电子显微镜、紫外-可见漫反射吸收光谱和X-射线衍射对其结构进行了表征.实验结果表明,稀土Gd和TiO2共掺杂拓展了WO3的光响应范围,提高了对可溶性染料罗丹明B(RB)的吸附作用,使WO3对RB的光催化降解活性和光稳定性得到了显著提高.     

可见光响应的掺杂型纳米TiO2制备及其光催化活性研究

在通过溶胶-凝胶法制备出铜和氮共掺杂的纳米二氧化钛(TiO2)的基础上,利用XRD和UV-Vis光谱等技术对其结构、掺杂效果、光催化活性等进行了表征,结果表明,掺入了铜和氮的纳米TiO2结构为锐钛矿晶型,其吸收阈值达到590nm,可见光吸收率比未掺杂的纳米TiO2有了很大提高,最终导致其光催化降解二甲酚橙的活性得到显著增强.     

磁控溅射制备MoS_2/C复合薄膜及其结构表征

采用单靶与双靶磁控共溅射技术,在非晶态石英玻璃基底上分别沉积生长了MoS_2薄膜及MoS_2/C复合薄膜.利用X射线衍射、拉曼光谱检测技术对MoS_2薄膜和MoS_2/C复合薄膜材料的结构进行表征,探讨了退火处理前后薄膜结构的变化.结果表明,通过脉冲和射频双靶共溅射制备的MoS_2/C复合薄膜,碳原子对二硫化钼的空隙进行了填充,经过400℃真空退火20分钟,获得了结晶度较好的MoS_2/C复合薄膜材料.     

纳米掺锡二氧化钛的制备及其光催化降解碱性藏花红

以无机物TiCl4、SnCl4为原料,共沉淀法制备了掺锡和不掺锡的TiO2纳米粒子,用XRD进行表征,并通过碱性藏花红光催化降解实验评价样品的光催化活性。重点考察了焙烧温度和掺锡量对TiO2光催化活性的影响。结果表明,在450℃焙烧适量掺锡的二氧化钛催化效果明显,甚至在普通光源下也有较高的催化活性。     

纳米TiO2薄膜无机合成及光催化性能研究综述

综述了纳米TiO2薄膜的无机合成方法,如溶胶-凝胶法、电化学法、溅射法和气相沉积法等,介绍了纳米TiO2薄膜的光催化机理和电荷传输特性,及光催化纳米TiO2薄膜在环境污染治理(如废水处理、大气污染治理等)中的应用.     

TiO2修饰介孔分子筛复合材料的制备与性能

设计了TiO2修饰介孔分子筛复合材料的综合实验.采用水热法结合溶胶-凝胶法制备了锐钛矿型TiO2修饰介孔分子筛的光催化复合材料(TiO2-MCM-41),运用多种分析手段(SEM、XRD、FT-IR及UV-Vis)对其结构进行了表征,研究其对有机染料亚甲基蓝溶液模拟污水的光催化降解活性,探讨了材料组成、结构与性能之间的...     

Z-型FeOOH/ZnIn2S4复合光催化材料的构筑及其降解四环素废水综合实验设计

基于前沿科研成果设计实施了一个综合探究实验——制备Z-型FeOOH/ZnIn2S4复合光催化材料,研究其在可见光下去除废水中四环素污染物的效率.通过该实验,学生既能了解太阳能驱动的半导体光催化净水技术领域的前沿知识、拓宽视野、激发科研热情,也能掌握纳米材料的制备、表征等基本实验技能,增强解决实际问题能力,提升科研探究兴...     

烧绿石结构La_2Zr_2O_7薄膜的外延生长研究

利用化学溶液沉积(CSD)法在双轴织构的Ni W基带上制备了烧绿石结构的La2Zr2O7(LZO)氧化物薄膜,并研究了热处理过程中升温路线对其外延生长行为的影响.利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对不同热处理路线下所制得的LZO薄膜的织构和表面形貌进行了表征.结果表明:升温速率对LZO薄膜的织构度以及表面形貌影响较大.可以认为通过选择合适的热处理路线,利用CSD法可以制得具有锐利织构度、表面平整且无明显缺陷的LZO薄膜,同时,在最佳热处理条件下制得的LZO薄膜适合用作涂层导体缓冲层.